陶氏首尔技术中心正式落成

新华08网上海3月21日电(记者刘雪)陶氏化学公司21日宣布，在韩国首尔设立的陶氏电子材料全球研发中心——陶氏首尔技术中心正式落成。

据悉，陶氏首尔技术中心的研发重点领域包括光刻机、有机发光二极管(OLED)、显示材料、高级芯片封装。该中心将成为陶氏OLED研发的全球中心所在，并配备尼康193纳米沉浸式扫描仪和300纳米机台设备。陶氏在韩国天安的设施还拥有一部193纳米的干式扫描仪，这样的投资组合使陶氏极大缩短了产品开发周期和制造时间。

资料显示，包括上述研发中心在内，陶氏近十年来在韩国投资超过4亿美元，旨在建立半导体、显示器和LED的先进生产基地，并拓展电子材料领域的业务。

此外，陶氏正在对上海陶氏中心的研发大楼进行扩建，将成立更多的研发实验室，扩建工程预计到2013年完成。据介绍，上海陶氏中心未来一段时间内的研发重点将聚焦在新能源领域。